Goście na Tygodniu Mody w Nowym Jorku - zima 2018/2019

EN_01303828_0188

30,00 EUR Użytek Osobisty
Sporządzenie wydruku na potrzeby prywatne, przetrzymywanie w pamięci komputera, bez prawa do rozpowszechniania.
40,00 EUR Internet - osoba prywatna
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności niekomercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
75,00 EUR Internet - firma
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności komercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
90,00 EUR Wydawnictwa Drukowane
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym wewnątrz dziennika, magazynu lub książki (dozwolone wersje cyfrowe). Jedno wydanie na terytorium jednego kraju. Zakaz odsprzedaży.

Ceny brutto

Prosimy o kontakt w sprawie wyceny innego rodzaju publikacji. Ceny tylko dla sprzedaży online.

special instructions

*** World Rights ***

caption

Kim Hilfiger, Andy Hilfiger and Daniela Kirsch attend Artistix Fashion Show NYFW Greg Polisseni on February 10, 2018 in New York City, USA. (Photo by Steve Eichner/NameFace/Sipa USA)

headline Goście na Tygodniu Mody w Nowym Jorku - zima 2018/2019

created date 2018-02-10

credit Steve Eichner/NameFace/Sipa USA/East News

source Sipa USA

byline NameFace

original transmission reference sipausa_22272795

weight 3,02MB

size 25cm x 38cm przy 300dpi

keywords - Pokaż

10, 2018, AND, ANDY, ARTISTIX, ATTEND, BY, CITY, DANIELA, EICHNER, FASHION, FEBRUARY, GREG, HILFIGER, IN, KIM, KIRSCH, NAMEFACE, NEW, NYFW, ON, POLISSENI, SHOW, STEVE, USA, YORK,