Goście na tygodniu mody w Nowym Jorku - zima 2015/16

EN_01163642_0204

30,00 EUR Użytek Osobisty
Sporządzenie wydruku na potrzeby prywatne, przetrzymywanie w pamięci komputera, bez prawa do rozpowszechniania.
40,00 EUR Internet - osoba prywatna
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności niekomercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
75,00 EUR Internet - firma
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności komercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
90,00 EUR Wydawnictwa Drukowane
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym wewnątrz dziennika, magazynu lub książki (dozwolone wersje cyfrowe). Jedno wydanie na terytorium jednego kraju. Zakaz odsprzedaży.

Ceny brutto

Prosimy o kontakt w sprawie wyceny innego rodzaju publikacji. Ceny tylko dla sprzedaży online.

special instructions

*** New York Post and New York Daily News OUT ***

caption

Yael Quint, Haiminh Deau - February 13, 2015 - CUSHNIE ET OCHS Fall/Winter 2015 Runway Show held at Milk Studios, NYC. (Photo by Sean Zanni/Patrick McMullan) *** Please Use Credit from Credit Field ***

headline Goście na tygodniu mody w Nowym Jorku - zima 2015/16

created date 2015-02-13

credit McMullan/Sipa USA/East News

source Sipa USA

byline Patrick McMullan Co.

original transmission reference sipausa_14815156

weight 1,16MB

size 31cm x 20cm przy 300dpi

keywords - Pokaż

13, 2015, AT, BY, CO, CUSHNIE, DEAU, ET, FALL, FEBRUARY, FIELD, FROM, HAIMINH, MCMULLAN, MILK, OCHS, PATRICK, PLEASE, QUINT, RUNWAY, SEAN, SHOW, STUDIOS, USE, WINTER, YAEL, ZANNI,