Tydzień Mody w Nowym Jorku - wybiegi

EN_01001972_2473

30,00 EUR Użytek Osobisty
Sporządzenie wydruku na potrzeby prywatne, przetrzymywanie w pamięci komputera, bez prawa do rozpowszechniania.
40,00 EUR Internet - osoba prywatna
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności niekomercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
75,00 EUR Internet - firma
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności komercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
90,00 EUR Wydawnictwa Drukowane
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym wewnątrz dziennika, magazynu lub książki (dozwolone wersje cyfrowe). Jedno wydanie na terytorium jednego kraju. Zakaz odsprzedaży.

Ceny brutto

Prosimy o kontakt w sprawie wyceny innego rodzaju publikacji. Ceny tylko dla sprzedaży online.

caption

Designer Ralph Lauren acknowledges applause at the conclusion of the Ralph Lauren show at Skylight Studio of the Fall 2012 Mercedes-Benz Fashion Week in New York, USA-16/02/2012

headline Tydzień Mody w Nowym Jorku - wybiegi

created date 2012-02-16

credit CHINE NOUVELLE/SIPA/EAST NEWS

source SIPA

byline CHINE NOUVELLE/SIPA

original transmission reference SIPA.00632417000014

weight 0,25MB

size 15cm x 12cm przy 300dpi

keywords - Pokaż

02, 2012, ACKNOWLEDGES, APPLAUSE, AT, CHINE, CONCLUSION, DESIGNER, FALL, FASHION, IN, LAUREN, MERCEDES-BENZ, NEW, NOUVELLE, OF, RALPH, SHOW, SKYLIGHT, STUDIO, THE, USA-16, WEEK, YORK,