Goście na tygodniu mody w Nowym Jorku - zima 2015/16

EN_01163642_0238

30,00 EUR Użytek Osobisty
Sporządzenie wydruku na potrzeby prywatne, przetrzymywanie w pamięci komputera, bez prawa do rozpowszechniania.
40,00 EUR Internet - osoba prywatna
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności niekomercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
75,00 EUR Internet - firma
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności komercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
90,00 EUR Wydawnictwa Drukowane
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym wewnątrz dziennika, magazynu lub książki (dozwolone wersje cyfrowe). Jedno wydanie na terytorium jednego kraju. Zakaz odsprzedaży.

Ceny brutto

Prosimy o kontakt w sprawie wyceny innego rodzaju publikacji. Ceny tylko dla sprzedaży online.

special instructions

*** New York Post and New York Daily News OUT ***

caption

Odell Beckham Jr., Anna Wintour - February 15, 2015 - Public School Fall/Winter 2015 Runway Show held at Studio, 330 Hudson Street, NYC.. (Photo by Sylvain Gaboury/Patrick McMullan) *** Please Use Credit from Credit Field ***

headline Goście na tygodniu mody w Nowym Jorku - zima 2015/16

created date 2015-02-15

credit McMullan/Sipa USA/East News

source Sipa USA

byline Patrick McMullan Co.

original transmission reference sipausa_14825772

weight 1,25MB

size 20cm x 31cm przy 300dpi

keywords - Pokaż

15, 2015, 330, ANNA, AT, BECKHAM, BY, CO, FALL, FEBRUARY, FIELD, FROM, GABOURY, HUDSON, JR, MCMULLAN, ODELL, PATRICK, PLEASE, PUBLIC, RUNWAY, SCHOOL, SHOW, STREET, STUDIO, SYLVAIN, USE, WINTER, WINTOUR,