arch tydzien mody w nowym jorku

EN_01048662_1059

30,00 EUR Użytek Osobisty
Sporządzenie wydruku na potrzeby prywatne, przetrzymywanie w pamięci komputera, bez prawa do rozpowszechniania.
40,00 EUR Internet - osoba prywatna
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności niekomercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
75,00 EUR Internet - firma
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności komercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
90,00 EUR Wydawnictwa Drukowane
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym wewnątrz dziennika, magazynu lub książki (dozwolone wersje cyfrowe). Jedno wydanie na terytorium jednego kraju. Zakaz odsprzedaży.

Ceny brutto

Prosimy o kontakt w sprawie wyceny innego rodzaju publikacji. Ceny tylko dla sprzedaży online.

special instructions

***NEW YORK POST AND NEW YORK DAILY NEWS OUT***

caption

Zang Toi - September 9, 2012 - New York, NY - ZANG TOI S/S 2013 Fashion Show at The Stage, Lincoln Center, NYC. Photo - Owen Hoffmann/PatrickMcMullan.com/Sipa USA

headline arch tydzien mody w nowym jorku

created date 2011-09-09

credit Hoffmann/McMullan/Sipa/East News

source Sipa USA

byline Patrick McMullan Co.

original transmission reference sipausa_11244845

weight 0,57MB

size 20cm x 31cm przy 300dpi

keywords - Pokaż

2012, 2013, 9, AT, CENTER, CO, FASHION, HOFFMANN, LINCOLN, MCMULLAN, NEW, NY, OWEN, PATRICK, PATRICKMCMULLAN, SEPTEMBER, SHOW, STAGE, THE, TOI, USA, YORK, ZANG,