Tydzień Mody w Nowym Jorku - wybiegi

EN_01002770_0507

30,00 EUR Użytek Osobisty
Sporządzenie wydruku na potrzeby prywatne, przetrzymywanie w pamięci komputera, bez prawa do rozpowszechniania.
40,00 EUR Internet - osoba prywatna
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności niekomercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
75,00 EUR Internet - firma
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym na stronie internetowej, w social mediach (Facebook, Instagram etc.) lub na blogu prowadzonych w ramach działalności komercyjnej. Licencja na 1 rok. Zakaz odsprzedaży. Maksymalny rozmiar zdjęcia 2000px.
90,00 EUR Wydawnictwa Drukowane
Jednokrotna publikacja wyłącznie w celu informacyjnym, publicystycznym lub dokumentalnym wewnątrz dziennika, magazynu lub książki (dozwolone wersje cyfrowe). Jedno wydanie na terytorium jednego kraju. Zakaz odsprzedaży.

Ceny brutto

Prosimy o kontakt w sprawie wyceny innego rodzaju publikacji. Ceny tylko dla sprzedaży online.

caption

Runway - February 14, 2011 - DENNIS BASSO Fall 2012 Fashion Show held at The Stage, Lincoln Center, NYC. Photo Credit: Patrickmcmullan/PatrickMcMullan.com/Sipa USA/sipausa.11075181/1202151853

headline Tydzień Mody w Nowym Jorku - wybiegi

created date 2012-02-14

credit MCMULLAN CO/SIPA/EAST NEWS

source SIPA

byline MCMULLAN CO/SIPA

original transmission reference SIPAUSA.30079044000028

weight 0,6MB

size 21cm x 31cm przy 300dpi

keywords - Pokaż

14, 2011, 2012, AT, BASSO, CENTER, CO, DENNIS, FALL, FASHION, FEBRUARY, LINCOLN, MCMULLAN, PATRICKMCMULLAN, PHOTOGRAPHE, RUNWAY, SHOW, STAGE, THE, USA,